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MAH200 图形电镀系列干膜光阻剂
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- 产品特性
MAH200 图形电镀系列干膜光阻剂是一种高性能、全水溶性的干膜光阻剂，特别适用于外层电镀的应用。特别针对高可能一次合格率而设计，在盖孔&蚀刻和酸性电镀工艺中有出色的性能。
特色及优点
极好的贴合度-高良率
盖孔能力优异
显影后边墙垂直/电镀后边墙垂直
显影泡沫少
高解析度、高附着力
应用于酸性镀铜和镍金工艺时无渗镀现象
化学物质渗漏少
碱性褪膜性能好-膜屑颗粒小
碱性褪膜速度快
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项目 |
单位 |
MAH220 |
MAH215 |
备注 |
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厚度 |
μm |
50 |
38 |
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感度*1 |
mj/cm2 |
40 |
30 |
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最短显影时间 |
sec. |
32 |
25 |
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附着力*1*2(L/S=X/250) |
μm |
30 |
25 |
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解析度*1*2（L/S=X/X） |
μm |
30 |
25 |
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盖孔孔径 |
μm |
7.5 |
6.5 |
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*2:1wt%Na2CO3,30℃，最短显影时间x2
*3:分辨率、解析度以及显影后图像。
